半导体超纯水设备

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半导体超纯水设备
半导体超纯水设备
半导体超纯水设备是半导体行业制造出高质量产品的关键设备，主要用于清洗、蚀刻、掺杂等关键环节。超纯水的纯度要求极高，甚至达到了ppb(十亿分之一)级别。超纯水的制备一般可分为前级处理、反渗透(RO)、电渗去离子(EDI)、微过滤(MF)紫外线杀菌、超净过滤(UF)等阶段。
1.半导体超纯水设备的重要性
1.1 半导体超纯水设备是半导体行业制造出高质量产品的关键设备。
1.2 在半导体制造过程中，超纯水被用于清洗、蚀刻、掺杂等关键环节，其纯度要求极高，甚至达到了ppb(十亿分之一)级别。
2.半导体超纯水设备的制备工艺2.1 超纯水的制备一般可分为前级处理、反渗透(RO)、电渗去离子(EDI)、微过滤(MF)、紫外线杀菌、超净过滤(UF)等阶段。
2.2 前级处理的作用是让原水(一般指城市自来水或地下水等)在进入多层介质过滤器(纯化膜组)之前，添加适量的化学试剂(例如次氯酸钠)以氧化有机物，与高分子聚合物产生凝聚作用，降低原水中的浑浊度及污染指数。
3.半导体超纯水设备的回收再利用3.1 在半导体材料或集成电路工厂的超纯水系统中，采取水的回收再利用处理，可以降低生产运行成本。
3.2 一般要使水的回收率达到70%以
上。